JPMORGAN ETFS (IRELAND) ICAV - CHINA A RESEARCH ENHANCED INDEX EQUITY (ESG) UCITS ETF USD (DIST)

  • % 2025-7,87%
  • Ranking561/579
  • Fecha10/07/2025

Gestora:JPMORGAN ASSET MANAGEMENTJPMORGAN CHASE

Categoría VDOS:RVI CHINARENTA VARIABLE

Rating VDOS:*Rating VDOS: 1 estrella

Rango de volatilidad:5Mayor 10%

Política de inversión

El Subfondo pretende conseguir una rentabilidad a largo plazo superior a la del índice MSCI China A (Total Return Net) invirtiendo fundamentalmente y de forma activa en una cartera de compañías chinas. El Subfondo pretende invertir como mínimo el 67% de su patrimonio (excluidos los activos que se mantengan como activos líquidos accesorios) en acciones A de China (incluidas compañías de pequeña capitalización) domiciliadas o que desarrollen la mayor parte de su actividad económica en China. El Subfondo incluye sistemáticamente los análisis ESG (ambientales, sociales y de gobierno corporativo) en las decisiones de inversión en, al menos, un 90% de los títulos adquiridos.

Referencia:MSCI China A (Total Return Net)

Última valoración

Valor liquidativo: 16,238364 EUR

Patrimonio (miles de euros):14.183,93

Fecha: 10/07/2025

1 día: -0,76%

Rentabilidades anuales

tabla de informe: Rentabilidades anuales
2025202420232022
Ranking y quintil respecto a la categoría RVI CHINA
Fondo-7,87%14,17%-17,21%·
Categoría0,86%15,74%-15,18%-12,99%
Ranking561/579353/580219/574-
Quintil542-

Rentabilidades acumuladas

tabla de informe: Rentabilidades acumuladas
1 mes3 meses1 año3 años
Ranking y quintil respecto a la categoría RVI CHINA
Fondo0,77%3,50%4,88%-28,96%
Categoría-0,57%8,68%13,59%-13,75%
Ranking160/580568/578523/578486/553
Quintil2555

Rentabilidad/Riesgo a 1 año

Rentabilidad media: 0,38%

Ranking: 537/583

Quintil: 5

Volatilidad: 24,10%

Ranking: 454/583

Quintil: 4

Otras características del fondo

ISIN: IE000DS9ZCL4

Fecha de constitución: 15/02/2022

Divisa: USD

Fija: 0,40%

Variable: 0,00%

Depósito: 0,00%

Suscripción: Hasta 5,00%

Reembolso: Hasta 3,00%

Aportación mínima:200.000,00 part.